概述：  

“HXTS-1000型熒光滲透檢測(cè)線”系固定分立組合型無損檢測(cè)設(shè)備。由總電源控制系統(tǒng)、超聲波電源控制系統(tǒng)、氣動(dòng)控制系統(tǒng)、超聲波清洗槽、熱浸洗槽、預(yù)烘干槽、停留冷卻槽、滲透滴落槽、噴淋清洗槽、軌道吊車、觀察室（含手持式紫外燈）、腳踏板及各滲透工藝操作面板等組成，并以相應(yīng)方式聯(lián)于一體。適用于各類金屬和非金屬零部件表面開口裂紋的熒光滲透檢測(cè)。

檢測(cè)線的電氣系統(tǒng)采用日本OMRON公司生產(chǎn)的CP1E系統(tǒng)可編程順序控制器（以下簡稱PLC）進(jìn)行控制，大大地簡化了控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)，溫控采用日本SHIMADEN生產(chǎn)的SRS0系列溫控儀，每道工序控制時(shí)間及控制溫度均可在面板上方便地修改，在每道工序的操作臺(tái)上設(shè)有獨(dú)立的工藝完成報(bào)警系統(tǒng)，使操作者不管在滲透線的什么位置均能清楚地知道每個(gè)工序當(dāng)前的工作狀態(tài)。

每道工序均設(shè)有手動(dòng)和自動(dòng)兩種操作方式，在手動(dòng)狀態(tài)下，每個(gè)機(jī)械動(dòng)作均可在人工控制下單獨(dú)進(jìn)行工作，在進(jìn)行一些有特殊要求零件探傷時(shí)就十分方便，在自動(dòng)工作狀態(tài)下，每道工序均可按設(shè)定好的控制程序和控制時(shí)間進(jìn)行工作。

設(shè)備特點(diǎn)：

1、 HXTS-1000型熒光滲透探傷檢測(cè)線系固定分立組合Ⅰ字型布局的無損檢測(cè)設(shè)備含腳踏板及暗房。配置2臺(tái)電動(dòng)葫蘆進(jìn)行分段輸送；該線配套輔助設(shè)備及水電氣排布管路均布置在槽體后側(cè)檢修通道內(nèi)，方便進(jìn)行檢修。

2、采用人機(jī)界面(HMI)與小型工業(yè)可編程序控制器PLC（歐姆龍）為核心，配合各種繼電器、交流接觸器、自動(dòng)開關(guān)、數(shù)字計(jì)時(shí)器、數(shù)字式溫度控制器等對(duì)各工藝槽的工作時(shí)間及溫度進(jìn)行精確控制。各槽既可獨(dú)立按程序進(jìn)行半自動(dòng)操作，也可獨(dú)立進(jìn)行分步手動(dòng)操作。

3、本機(jī)各工藝槽體均采用厚度2.0的不銹鋼304板材為主體鈑金焊接而成,具有易清潔、耐腐蝕的功能，槽體采用雙層設(shè)計(jì)，內(nèi)夾耐高溫防火棉作保溫；

4、各工藝槽均配裝可氣動(dòng)開合的蓋子，打開角度大于等于90度，便于電動(dòng)葫蘆的吊裝,蓋子均配有密封膠條并具有防帶水功能；

5、電氣控制柜和各槽控制面板上的操作功能指示說明清晰。

6、所有的儀表、開關(guān)、按鈕、指示燈等為防止受液體、揮發(fā)性氣體和污物的侵蝕，均設(shè)有保護(hù)裝置，且儀表拆卸方便，便于計(jì)量檢定。

7、氣動(dòng)控制系統(tǒng)：主要由氣源處理三聯(lián)件、電磁閥、壓力表、氣缸等各種氣動(dòng)控制及執(zhí)行元件組成，用于各槽上蓋的氣動(dòng)開啟與關(guān)閉、清洗后烘干前的殘留液體的氣吹清除，配置油水分離器，所有使用水和壓縮空氣的位置都裝有壓力表及調(diào)壓裝置。系統(tǒng)配置壓力繼電器，當(dāng)系統(tǒng)壓力低于0.4Mpa時(shí)，整條線停止運(yùn)行，并且發(fā)出報(bào)警信號(hào)，以確保流水線安全運(yùn)行。  

8、各槽均設(shè)有氣動(dòng)槽蓋，槽蓋和槽體之間采用橡膠墊密封，且具有防帶水功能，槽蓋開啟后與槽體平面的夾角＞90度，以保證操作員和零部件的安全。各升降架、電動(dòng)轉(zhuǎn)盤承重100Kg。

9、電動(dòng)升降葫蘆配套行車軌道及無縫滑觸線導(dǎo)電，立柱采用預(yù)埋式，主導(dǎo)軌采用工字鋼，材質(zhì) Q235，進(jìn)行防腐處理。

10、各工藝槽、箱均配裝高度可調(diào)底腳，便于廠房就地安置設(shè)備及調(diào)平；

11、整體噴塑耐腐易清潔。

檢測(cè)步驟：

根據(jù)各工藝要求，設(shè)定相關(guān)的工藝時(shí)間及溫度，通過電動(dòng)葫蘆將被檢測(cè)工件依次吊入相應(yīng)的工藝槽內(nèi)。最終在觀察暗室內(nèi)完成熒光滲透檢測(cè)。

其工藝流程圖如下：

超聲清洗→熱浸洗→預(yù)烘干→滲透→滴落→噴淋清洗→補(bǔ)清洗→終烘干→顯像觀察